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電熔鎂砂熔煉過程運(yùn)行優(yōu)化控制系統(tǒng)及方法、設(shè)備、介質(zhì)
發(fā)布時(shí)間:2025-03-05

申請(專利)號:CN202210854757.1

申請日:2022-07-18

授權(quán)公告號:CN115032940B

授權(quán)公告日:2025-01-28

申請人:北京東土科技股份有限公司

地址:100144 北京市石景山區(qū)實(shí)興大街30號院2號樓8層901

發(fā)明人:周愛平 張開翼 邊浩 賈瑤

主分類號:G05B19/05

分類號:G05B19/05

代理機(jī)構(gòu):北京華夏正合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)

代理人:韓登營

主權(quán)項(xiàng):

1.一種電熔鎂砂熔煉過程運(yùn)行優(yōu)化控制系統(tǒng),其特征在于,包括相互通信連接的PLC控制器和工業(yè)服務(wù)器;所述PLC控制器包括監(jiān)控模塊,用于監(jiān)測電熔鎂砂熔煉過程并獲取相關(guān)參數(shù);邏輯控制模塊,用于根據(jù)所述相關(guān)參數(shù)進(jìn)行邏輯運(yùn)算;PID控制模塊,用于根據(jù)邏輯運(yùn)算結(jié)果對電熔鎂砂熔煉過程進(jìn)行常規(guī)PID控制;切換控制模塊,用于執(zhí)行PLC控制器和VPLC實(shí)時(shí)系統(tǒng)的控制切換;所述工業(yè)服務(wù)器包括第一非實(shí)時(shí)系統(tǒng),用于對電熔鎂砂熔煉過程中的所述PLC控制器的數(shù)據(jù)進(jìn)行采集與處理、對所述采集與處理的數(shù)據(jù)進(jìn)行運(yùn)行優(yōu)化計(jì)算;VPLC實(shí)時(shí)系統(tǒng),其運(yùn)行增量式PID控制程序和帶輸出補(bǔ)償?shù)腜ID控制程序,用于根據(jù)所述運(yùn)行優(yōu)化計(jì)算得到的控制量對電熔鎂砂熔煉過程進(jìn)行增量式PID控制和帶輸出補(bǔ)償?shù)腜ID控制;第二非實(shí)時(shí)系統(tǒng),用于通過MaView編程平臺(tái)為所述VPLC實(shí)時(shí)系統(tǒng)開發(fā)所述增量式PID控制程序和帶輸出補(bǔ)償?shù)腜ID控制程序,并為所述VPLC實(shí)時(shí)系統(tǒng)配置VPLC組態(tài),以及實(shí)現(xiàn)所述PLC控制器和所述VPLC實(shí)時(shí)系統(tǒng)的數(shù)據(jù)通信中轉(zhuǎn);第三非實(shí)時(shí)系統(tǒng),用于監(jiān)控所述電熔鎂砂熔煉過程的三相電流數(shù)據(jù)、VPLC實(shí)時(shí)系統(tǒng)的控制量、所述PLC控制器的控制量以及控制切換的標(biāo)志位;所述第二非實(shí)時(shí)系統(tǒng)還包括數(shù)據(jù)庫模塊,用于存儲(chǔ)所述VPLC實(shí)時(shí)系統(tǒng)的控制量、所述PLC控制器的控制量以及電熔鎂砂熔煉過程的三相電流數(shù)據(jù)。

摘要:

本申請?zhí)峁┝艘环N電熔鎂砂熔煉過程運(yùn)行優(yōu)化控制系統(tǒng)及方法、設(shè)備、介質(zhì),所述系統(tǒng)包括相互通信連接的PLC控制器和工業(yè)服務(wù)器;所述PLC控制器包括監(jiān)控模塊,用于監(jiān)測電熔鎂砂熔煉過程并獲取相關(guān)參數(shù);邏輯控制模塊,用于根據(jù)所述相關(guān)參數(shù)進(jìn)行邏輯運(yùn)算;PID控制模塊,用于根據(jù)邏輯運(yùn)算結(jié)果對電熔鎂砂熔煉過程進(jìn)行常規(guī)PID控制;切換控制模塊,用于執(zhí)行PLC控制器和VPLC實(shí)時(shí)系統(tǒng)的控制切換;所述工業(yè)服務(wù)器包括第一非實(shí)時(shí)系統(tǒng),用于對電熔鎂砂熔煉過程中的所述PLC控制器的數(shù)據(jù)進(jìn)行采集與處理、運(yùn)行優(yōu)化計(jì)算;VPLC實(shí)時(shí)系統(tǒng),用于根據(jù)運(yùn)行優(yōu)化的控制量對電熔鎂砂熔煉過程進(jìn)行高性能PID控制;第二非實(shí)時(shí)系統(tǒng),用于實(shí)現(xiàn)所述PLC控制器和所述VPLC實(shí)時(shí)系統(tǒng)的數(shù)據(jù)通信中轉(zhuǎn)。


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